半導體相關設備

高速橢偏儀

自製設備

單點、線、面多種膜厚測量功能

點 : 以70 fps的速率,即時量測觀察逐次變化的膜厚數據。

線 : 在5sec內以0.2mm間隔可取得100個點膜厚數據。

面 : 在1min內掃描2mmx 10mm區域測得超過10,000個點數據。

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詳細介紹

高速橢偏儀

單點、線、面多種膜厚測量功能

點 : 以70 fps的速率,即時量測觀察逐次變化的膜厚數據。

線 : 在5sec內以0.2mm間隔可取得100個點膜厚數據。

面 : 在1min內掃描2mmx 10mm區域測得超過10,000個點數據。

使用光子晶體陣列高密度集成偏光片製成,捨棄以往的旋轉偏光機械。

利用橢偏法測量去計算反射射線的偏振信息轉換為膜厚度和折射率,不再需要複雜的旋轉過濾器才能運作。

光子晶體陣列製成的高密度集成偏振濾光片,無需再使用旋光技術,可實現高速測量同時也省去設備維護費用。